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桌面低成本等离子清洗机

英文名:Benchtop Low Cost Plasma Cleaning System

品牌:Plasma Etch(USA)

型号:PE-75

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产品介绍:

简介

PE-75是我们最大的入门级等离子清洗机,提供很多竞争产品没有的特性。

PE-75具有所有PE-50-XL的特性,反应腔尺寸会更大。 这台等离子清洗机适合小批量生产,研究和开发实验室,测试生产或是大学。用于等离子清洗和表面改性应用. 系统配置一个圆型铝真空反应腔。12” 直径 x 11” 深. 并带一个直驱型射频电极。

特性

所有PLASMA ETCH等离子清洗采用电容平行板设计,是最高效等离子产生方式。

很多竞争对手采用玻璃/石英筒形腔体设计不能穿透真空密封容器,从而被限制为使用射频线圈绕在腔体外围的射频耦合。这是一种非常没有效率的方式,结果是功率损失,严重的低刻蚀/清洗移除效率。

等离子清洗设备的用途和灵活性,可以用与处理多种表面,并精确控制。比较湿法清洗和蚀刻工艺,等离子清洗没有危险物质和废水产生,如果有效的表面处理对产品重复性或是过程效率非常关键,等离子工艺可能是很好的选择。

PE-75等离子清洗机包含部件,全部在美国生产,Plasma Etch品质保证。

PE-75等离子清洗机用于移除有机或是无机污染物,改善浸润性,提升粘接强度,并去除残留物,这在非常多的产品和制作过程中都是有效的处理方式。

 

技术规格

坚固耐用的圆形铝真空反应腔12” 直径 x 11” 深

单个9”W x 10”D水平直驱型射频电极,5.5“腔体有效高度。

400W, 50KHZ连续可变射频发生器电源

5CFM, 2级直驱真空泵,氧气供应(需要加Krytox油)

2 旋转流量计,2路气体控制,0-25cc/min, 带精密针阀

热电偶真空计0-1Torr

PLC微处理器控制系统

键盘输入界面带文本显示

储存1组过程参数用于自动过程序列

反应器尺寸18”W X 19”D X 24”H.

大约运输重量:反应器91lbs,真空泵35lbs。2箱。

电压120VAC, 15A.

 

可选Venus升级选项

l   适用电脑/笔记本的控制程序

使用含有PLASMA ETCH软件的台式机/笔记本,用于自动控制系统运行,编辑工作序列,多个状态存储以及更先进的功能。

l   质量流量控制器

带一个质量流量控制器。可以配置更多的质量流量控制器。



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