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台式等离子清洗机

英文名:Compact Plasma Cleaning System

品牌:Plasma Etch (USA)

型号:PE-100

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产品介绍:

PE-100是一款完整的等离子清洗系统或是反应离子蚀刻系统, 带真空泵. 设计牢固和性能稳定, 高性价比,让那些初创工厂,医疗实验室,研发机构,能够使用PLASMA ETCH的产品和技术
PE-100提供三种功能配置:
1.      常规的等离子清洗和等离子蚀刻
2.      反应离子蚀刻(RIE)
3.      PE-100可转换配置,一个系统包含各向异性和各向同性等离子体处理, 可移除托盘配置。
 

简介

 

PE-100焊接铝真空反应腔包含一个宽松的240平方英寸的有效等离子处理面积, 标准配置三层电极。采用工业粉末固化工艺,PE-100本体洁净的设计,能在运行过程中减少污染物产生。

当使用PE-100作为反应离子蚀刻应用,电极会特别设计为直驱型等离子,意味着等离子接触处理物表面,产生的等离子体向下流动或是钻进的效果。这个过程主要用在那些微孔或是清洗非常小的空间,这些工件通常不能够通过化学清洗方法,因为液体流动会在小空间里面受到限制,比如过孔。

典型的客户包括:先进生产制造工程,研究和开发实验室,测试工厂以及大学。工业客户包括生物医药,牙科,电子,光电子,医疗器械,塑料,光学,太阳能电池电池板等。.

使用我们的等离子清洗机刻蚀,比较化学浸泡方法,可以避免昂贵的有害化学废水处理。等离子处理非常容易使用,通过导引型触摸屏操作控制等离子过程的各个参数,来确保高重复性。

我们可以客户化配置反应腔和电极,来满足您的产品或是过程需要,包括客户化尺寸水平电极,RIE(反应离子蚀刻) 和半导体引线边框的布局。

 

标准特性

焊接铝真空反应腔
3层水平处理电极  9” 宽 x 13” 深  3” 间隔距离

300 瓦射频发生器 @ 100KHZ

一个0-50sccm质量流量控制器

皮拉尼真空计0-1托

微处理器控制系统,带触摸屏界面, 存储一组过程参数

8CFM带氧气供应真空泵

真空泵油水分离器

 

可选项目特性
300 W射频发生器 @ 13.56 MHZ

静电防护

过程温度控制

氮气输入系统,用于延长真空泵寿命

RIE(反应离子蚀刻)配置

客户化电极尺寸和配置

 

 

电气和尺寸:

系统重量:等离子反应器 160lbs,真空泵68lbs

系统尺寸:等离子反应器 17“ X 28” X 30”, 真空泵6 “ X 18” X 9”

 

厂务条件:

电压:220伏交流, 50HZ, 13A, 单相

压缩气体供应80-100psig <0.5 CFM

可调过程气体15-30PSIG

温度低于29.5摄氏度,非冷凝

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