产品介绍：
紫外臭氧清洗技术是一种干式清洗，不需要任何的溶剂，是非常高效的精密清洗方式，同时对清洗表面没有损伤。紫外臭氧清洗技术作为硅片清洗，TFT玻璃基等清洗应用，也是表面改性的一种非常重要的技术
紫外臭氧清洗在室温下进行，非常容易操作。另外，维护成本低。他可以非常有效低清除低密度污染物，从而获得超级洁净的表面。比较现有的空气压等离子或是准分子灯，他非常容易扩展，成本低。不仅仅适用小型元件，也可以适合超过1800mm的大型元件。
典型清洗设备尺寸，可以按客户规格定制不同尺寸的紫外/臭氧清洗系统
灯管功率 110W x 10 只灯
应用 ITO表面清洗等
灯管 UV/O?清洗灯
冷却 水冷或强制风冷
电源要求 220/380V, 50/60Hz
清洗面积 1200 x 500mm
反射罩 铝反射罩
灯管功率 90W x 10 只灯
应用 LCD表面清洗
灯管 UV/O?清洗灯
冷却 水冷或强制风冷
电源要求 220/380V, 50/60Hz
OLED/LCD尺寸370 x 470mm / 590 x 670mm
反射罩 铝反射罩
具体应用：
1． 薄膜沉积前的基体清洗
2． 清洗硅片，透镜，镜面，太阳能面板
3． 清洗助焊剂型混合电路和平板LCD
4． 蚀刻TEFLON,或其他的有机材料
5． 改善塑料表面涂料的粘接性能
6． 玻璃表面的亲水处理和改性
7． 金属表面的亲水处理和改性
8． 去除硅片UV胶带，UV油墨，光刻胶
9． 氧化退火和改性或产生氧化层
